삼성전자 반도체 생산현장. 삼성전자 제공정부가 반도체 핵심 공정에 사용되는 EUV(극자외선) 장비의 국내 도입 절차를 대폭 간소화한다. 삼성전자·SK하이닉스 등 국내 반도체 기업들이 장비를 도입하는 데 걸리는 시간이 기존 34일에서 9일로 최대 25일 단축될 전망이다.
산업통상부는 2일 국무회의에서 글로벌 안전기준을 충족한 반도체 제조장비에 대해 고압가스 일반제조시설이 아닌 '특정설비' 기준을 적용하도록 하는 개정안이 의결됐다고 밝혔다.
이번 제도 개선으로 EUV 장비 도입 기간은 장비당 최대 25일 단축되고, 해외 공인검사기관 내압·기밀 검사비용도 장비당 약 5억 원 절감될 것으로 예상된다.
그간 반도체 공정에 필수적인 EUV 장비는 내부에 고압가스 배관 및 장치가 포함돼 현행 법령상 고압가스 제조설비로 분류됐다. 이에 따라 EUV 장비 설치시마다 기술검토와 검사를 받아야 했고, 이 과정에서 장비 도입이 지연되고 기업 부담이 크다는 의견이 제기됐다.
산업부는 글로벌 안전기준과 국내 안전관리 체계 간 정합성을 검토해 EUV 장비를 기존 '고압가스 제조시설'에서 특정설비로 전환하는 개정안을 마련했다.
개정안은 다음 주 공포 후 즉시 시행된다.
김정관 산업부 장관은 "안전 확보와 첨단산업 경쟁력 강화를 동시에 달성하기 위한 대표적인 규제혁신 사례"라며 "앞으로도 글로벌 기준에 부합하는 합리적 안전관리 체계를 통해 첨단산업 투자를 적극 지원하겠다"고 밝혔다.